目前國內在半導體潔凈車間的技術已達到納米級，但凡空間中存在著細小灰塵污染，將嚴重影響產品質量，甚至會出現廢品的情況，因此在半導體潔凈車間必須按高標準的條件要求進行配置，從EPC工程（總承包）的角度，具體分析半導體潔凈車間在生產環境中的要求。

6、凈化空調系統加熱器設置新風，超溫斷電保護。

對靜電要求極其嚴格，對濕度的要求更高，因為過于干燥的廠房內極易產生靜電，造成CMOS集成損壞，因此電子廠房的溫度應控制在22℃左右。相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內，例如光刻區或者在遠紫外線處理（DUV）區甚至更小，而在其他地方則放松到±5%的范圍內。細菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨蟲）在相對濕度超過60%的環境中可以活躍地繁殖，一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長，所以濕度控制在處于40%至60%的范圍之間時，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。而濕度低于30%則會讓人感覺干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適。

半導體潔凈車間對環境潔凈度、溫濕度、振動、ESD、AMC控制等都有一定的要求，相比其他工業潔凈車間，無論是生產集成電路器件、分立器件、光電半導體、邏輯IC、模擬IC、儲存器......都有面積大、潔凈等級高、溫濕度控制精度高等特點。